av网站免费在线看_少妇激情婬乱a片免费野花_大尺度床震捏胸呻吟视频_日产无码少妇视频_五月天欧美自拍偷拍_日本精品久久一区_欧美日韩国产58香蕉在线视频_新免费 无码 国产在线看

碳化硅,新能源車“里程焦慮”的一種新解法

閱讀量:
一直以來,“里程焦慮”、“充電緩慢”都是卡住新能源汽車脖子的關鍵問題,是車企和車主共同的焦慮。

641.gif

電動汽車發展還有上升空間嗎?

一直以來,“里程焦慮”、“充電緩慢”都是卡住新能源汽車脖子的關鍵問題,是車企和車主共同的焦慮。

為了解決最大的痛點,車企圍繞著這個核心又迷茫的話題進行著不斷的探索。但無論蔚來的換電策略、還是電池廠商不斷探索的高密度三元鋰電池,似乎都是在電池容量上下功夫,并沒有真正地解決充電速率的問題,快速充電一直是人們心中一道過不去的坎。

但隨著高壓電氣技術的不斷進步,快充時代已經到來。繼2019年4月保時捷Taycan Turbo S 全球首發三年后,800V高壓超充終于開始了普及。相比于400V,800V帶來了更高的功效,大幅提升功率,實現了15分鐘的快充補能。

而構建800V超充平臺的靈魂就是材料的革新,基于碳化硅的新型控制器,便引領著這一輪高壓技術的革命。

本文從碳化硅發展原因講起,分析了下游應用市場與相關公司,以期全方位體現碳化硅發展現狀、前景與具體投資機會。

碳化硅成半導體攻關熱點

作為半導體材料之一,碳化硅的快速發展得益于半導體的廣闊市場帶動。

半導體,指常溫下導電性能介于導體與絕緣體之間的材料,被稱為現代工業的“糧食”。近年受益于智能手機和智能穿戴等新興消費電子市場的快速放量,以及汽車電子、工業控制和物聯網等科技產業的發展,疊加半導體國產化的快速推進,我國半導體產業迎來了快速發展階段。

近年來,全球半導體材料市場規模穩健增長。總銷售額從2010年的449億美元增長至2021年的643億美元,2010-2021年復合增長率為33.3%。未來,隨著半導體芯片工藝升級、芯片尺寸持續小型化,以及全球硅材料、化合物半導體材料的品種和性能不斷迭代升級的影響下,晶圓制造材料占比有望繼續提升。

我國半導體產業更是處于高速發展的階段。2021年,我國半導體銷售額達到了1921億美元,同比增長 26.80%,2017-2021年復合增速高達9.94%,高于全球同期6.18%的復合增速。從銷售額占比來看,我國半導體產業的全球影響力逐步增強,國內半導體銷售額占全球比重從2017年的30.69%提升至2021年的35.27%。

碳化硅材料電氣性能優越,有望成為半導體領域最具前景的材料之一。

半導體材料發展至今已經歷三個階段。常見的半導體材料包括硅(Si)、鍺(GE)等元素半導體及砷化鎵(GaAs)、碳化硅(SiC)、氮化鎵(GaN)等化合物半導體材料。

從被研究和規模化應用的時間先后順序來看,上述半導體材料被業內通俗地劃分為三代:

第一代半導體是以硅(Si)、鍺(Ge)為代表,從20世紀50年代開始大規模應用,主要應用于低壓、低頻、低功率的晶體管和探測器中。但是硅材料的物理性質限制了其在光電子和高頻電子器件上的應用,無法滿足人類的需求。

第二代半導體材料是以砷化鎵(GaAs)、磷化銦(InP)化合物材料為代表,從20時機90年代開始大規模應用,適用于制作高速高頻、大功率及發光電子器件。但是第二代半導體擊穿電場較低,限制了其在高溫、高頻和高功率器件領域的應用。另外砷化鎵材料有毒,存在著引起環境污染的問題。

第三代半導體材料是以碳化硅(SiC)、氮化鎵(GaN)為代表的寬禁帶半導體,多在通信、新能源汽車、高鐵、衛星通信、航空航天等場景中應用。與前兩代半導體材料相比,第三代半導體材料禁帶寬度大,具有擊穿電場高、熱導率高、電子飽和速率高、抗輻射能力強等優勢,因此,采用第三代半導體材料制備的半導體器件不僅能在更高的溫度下穩定運行,適用于高電壓、高頻率場景,此外,還能以較少的電能消耗,獲得更高的運行能力。

碳化硅在第三代半導體中存在的主要形式是作為襯底材料,可以滿足高溫、高壓、高頻、大功率等條件下的應用需求,當前碳化硅襯底已應用于射頻器件及功率器件。具體來說,碳化硅器件有以下幾個優點:

1)耐高壓:碳化硅擊穿電場強度大,碳化硅制備器件可以極大提高耐壓容量、工作頻率與電流密度,在實際應用中可以設計成更小的體積。

2)耐高溫:碳化硅的禁帶接近硅的3倍,可以保證碳化硅器件在高溫條件下工作的可靠性,極限溫度甚至可達600℃。同時,其導熱性更高,有助于器件的散熱,有助于實現設備的小型化。

3)實現高頻性能:碳化硅包和電子漂移速率大,可以實現更高的工作頻率與功率密度,也可以減少能量損失。在800V高壓工作下,碳化硅 MOSFET逆變器的能量損失僅為硅基IGBT能量損失的30%-50%之間。

SiC產業鏈中,價值主要集中于上游襯底和外延。

SiC生產過程主要包括碳化硅單晶生長、外延層生長及器件制造三大步驟,分別對應襯底、外延、器件三大環節。

三大環節中,襯底成本占比達47%,其次為外延片,占比23%,這兩大工序為SiC器件的重要組成部分。由于SiC襯底生產工藝壁壘高,生產良率較低,全球產量具有明顯的瓶頸,因此其制造成本一直居高不下。此外,外延片的參數性能會受到SiC襯底質量的影響,其本身也會影響下游器件的性能。若能在襯底和外延片環節進行技術突破,將會大幅降低制造成本,提高性能。

來源:部分摘自互聯網

合盛.GIF